磁控溅射陶瓷膜是一种通过物理气相沉积技术制备的薄膜。该技术是利用高能离子轰击靶材表面,使得靶材原子或分子从靶材表面剥离并沉积在基底上的一种方法。其中的"磁控"指的是在制备过程中,使用了外加磁场来调节离子轰击靶材表面的角度和方向;"溅射"指的是由于离子轰击而产生的原子或分子从靶材表面剥离并沉积在基底上。
该技术可以制备出具有高硬度、高耐磨性、高化学稳定性等特点的陶瓷薄膜。这些特点使得该膜广泛应用于电子、光学、机械等领域,如半导体器件、涂层保护、摩擦削减等方面。
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